DescriereFormula sa, fără agenți surfactanți care pot agresa pielea, are o acțiune purifiantă, fără a determina uscăciunea excesivă a tegumentului și iritații cutanate.
Conține Peroxid de Uree, un agent antimicrobian cu spectru larg care acționează contra bacteriilor GRAM+ si GRAM- care determină leziunile acneice.
În contact cu pielea, Mask® Clean eliberează peroxid de hidrogen și uree: primul are o acțiune eficientă împotriva bacteriilor, iar ureea, datorită proprietăților sale keratolitice și emoliente, calmează pielea după fiecare curățare și stimulează regenerarea cutanată.
MASK® CLEAN favorizează regenerarea epidermului afectat de tratamentele locale agresive de natură chimică (retinoizi, peroxid de benzoil, acid azelaic, acid salicilic, etc.
) sau mecanică (dermabraziune, laser, etc.
), utilizate frecvent în tratamentul acneei.
Mask® CLEAN Purifiant Facial este îmbogățit și cu CMβGlucani, un principiu activ natural obținut prin biofermentare ce favorizează regenerarea barierei cutanate de la nivelul epidermului și protecția naturală a pielii.
CompozitieAqua, Glycerin, Disodium Laureth Sulfosuccinate, Sodium Lauryl Sulfoacetate, Hydroxyethilcellulose, Caprylyc/Capryl Glucoside, Urea Peroxide, Polysorbate 20, Carboxymethyl Betaglucan, Allantoin, Etidronic acid, Parfum.
Mod de administrareDistribuiți o cantitate mică de gel pe zona interesată și masați ușor pentru a elimina impuritățile.
Clătiți apoi cu apă călduță sau curățați zona cu ajutorul unor servețele umede.
ProducatorSolartiumMod de prezentareFlacon 150 ml.
Uree | Primul are o actiune eficienta impotriva bacteriilor iar ureea datorita proprietatilor sale keratolitice si emoliente calmeaza pielea dupa fiecare curatare si stimuleaza regenerarea cutanata |
---|